美光宣布新建晶圓廠計(jì)劃

10月8日，報(bào)道稱美光科技在官網(wǎng)宣布，計(jì)劃在紐約州中部打造一個(gè)巨型晶圓廠，以促進(jìn)存儲芯片的生產(chǎn)。

聲明中表示，將向一期項(xiàng)目投資200億美元，在克萊鎮(zhèn)新建一個(gè)巨型工廠，2023年開始場地準(zhǔn)備工作，2024年開始施工，2025年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，并在2026年-2030年間根據(jù)行業(yè)需求逐步增產(chǎn)。

聲明指出，這座工廠最終可能包含四個(gè)60萬平方英尺的潔凈室——半導(dǎo)體工業(yè)生產(chǎn)廠房，總計(jì)面積能達(dá)到240萬平方英尺，規(guī)模接近40個(gè)橄欖球場的大小，創(chuàng)美國半導(dǎo)體行業(yè)歷史之最。

在未來20年，美光計(jì)劃向工廠總共投資高達(dá)1000億美元，能為當(dāng)?shù)貏?chuàng)造約50,000個(gè)就業(yè)機(jī)會。在項(xiàng)目周期內(nèi)，紐約還將為該工廠提供55億美元的資金激勵，支持工廠招聘和資本投資。

美光透露，紐約工廠將采用最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工藝和工具，包括極紫外線（EUV）光刻技術(shù)，以鞏固公司在DRAM行業(yè)中的領(lǐng)先地位。

美光科技首席執(zhí)行官此前表示，該工廠將生產(chǎn)廣泛用于數(shù)據(jù)中心、個(gè)人電腦和其他設(shè)備的DRAM芯片。